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化学气相沉积 CVD

Price
Negotiable
Unit
Piece
Product number
201711170900455919
Place of Origin
中国 - 山东 - 淄博
  • Product introduction
  • Function:0
    Theory:0
    Application:0
    Application Area:0

    化学气相沉积(CVD)技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。在典型的CVD工艺过程中,一种或多种蒸汽源原子或分子混合于腔室中,在外部能量作用下(如加热、光照等离子体等)发生化学反应并在晶圆表面形成需要的固体薄膜。通常,工艺过程中还会产生很多副产物,这些副产物会被气流带走离开腔室。由于CVD技术具有生长速率快、成膜范围广、重现性好、可实现外延生长等优点,被广泛用于多种不同形态的成膜,如化合物薄膜、单晶薄膜、多晶薄膜和非晶薄膜,并成为微电子领域、光电子领域和功能涂层等的关键技术。  

      

  • Company Name
    Place of Origin
    中国 - 山东 - 淄博
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